等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)機(ji)在現在的(de)(de)工業(ye)生產中起(qi)到很(hen)重要(yao)的(de)(de)作用，現在等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)機(ji)在很(hen)多(duo)企業(ye)中都是(shi)(shi)不可缺少(shao)的(de)(de)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)設備。等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)不需(xu)要(yao)添加任何(he)溶(rong)劑，且無有(you)害物質產生，也(ye)通(tong)常被叫做環保(bao)型的(de)(de)干式清(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)，那(nei)么等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)機(ji)是(shi)(shi)如(ru)何(he)達到清(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)的(de)(de)效果呢?

　　等(deng)離(li)子(zi)體清(qing)(qing)(qing)洗(xi)原理(li)：通(tong)過化學(xue)或(huo)物理(li)作用(yong)(yong)對工件表面進行處理(li)，實(shi)現分子(zi)水平的(de)污(wu)(wu)(wu)染(ran)(ran)物去除(chu)(一般厚度為(wei)幾(ji)(ji)個～幾(ji)(ji)十個nm)。被清(qing)(qing)(qing)除(chu)的(de)污(wu)(wu)(wu)染(ran)(ran)物可能(neng)為(wei)有機物、環氧樹(shu)脂、光刻膠(jiao)、氧化物、微(wei)顆粒污(wu)(wu)(wu)染(ran)(ran)物等(deng)。對應不(bu)(bu)同的(de)污(wu)(wu)(wu)染(ran)(ran)物，應采(cai)用(yong)(yong)不(bu)(bu)同的(de)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)工藝。按照清(qing)(qing)(qing)洗(xi)原理(li)可以分為(wei)：物理(li)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)和化學(xue)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)。自動等(deng)離(li)子(zi)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)機

　　物(wu)理(li)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)：表面作用以(yi)物(wu)理(li)反應為主的等離(li)子體清(qing)(qing)(qing)洗(xi)，也叫濺(jian)射腐蝕(SPE)。我們以(yi)Ar來說明等離(li)子清(qing)(qing)(qing)洗(xi)機的化學(xue)反應。

　　例：Ar+e- →Ar++2e- Ar++沾污→揮(hui)發性(xing)沾污

　　Ar+在(zai)自偏壓(ya)(ya)或外加偏壓(ya)(ya)作(zuo)用下被加速產生動能，然(ran)后轟擊在(zai)放(fang)在(zai)負(fu)電(dian)極上(shang)的被清(qing)洗(xi)工件(jian)表面，工件(jian)表面的污染物(wu)被轟擊后，游(you)離(li)在(zai)腔體內部，然(ran)后經過真空泵抽出腔體外部。一(yi)般用于去除(chu)氧(yang)(yang)化物(wu)、環氧(yang)(yang)樹(shu)脂溢出或是微顆粒污染物(wu)。

　　化學(xue)(xue)清洗:表面作用以(yi)化學(xue)(xue)反應為主的等離子體清洗，又稱PE。

　　例1：O2+e- →2O*+e- O*+有(you)機物→CO2+H2O

　　從反(fan)應(ying)式可見，氧(yang)等離子體通過化學反(fan)應(ying)可使(shi)非揮發(fa)性有機(ji)物變(bian)成易揮發(fa)的(de)H2O和CO2。

　　例2：H2+e- →2H*+e- H*+非揮(hui)發性金屬氧化物→金屬+H2O

　　從反(fan)應(ying)(ying)式可見(jian)，氫(qing)等離(li)子體(ti)通(tong)過(guo)化(hua)學反(fan)應(ying)(ying)可以去除(chu)金屬表面氧化(hua)層，通(tong)常用于(yu)清潔金屬表面，在清洗過(guo)程(cheng)中(zhong)避免金屬氧化(hua)。

　　在正常的清(qing)洗過(guo)程中(zhong)物理清(qing)洗與化學清(qing)洗時同時存在的，可以根據具體要求選(xuan)擇不同的工(gong)藝氣體。